Mis on konkreetne protsess, mille käigus koguneeritakse heleduse magnetresonantsi põhimõttel kuidas ar-gaas ioniseeritud
Apr 22, 2020| Missugune on heleduse ' i ehituse konkreetne protsess Magnetron sputtering põhimõttel? Kuidas ar-gaas ioniseeritud on?
Positiivse ja negatiivse elektroodide vahel rakendunud pinge alusel viiakse läbi elektrooidide gaasiaatomid ioniseeritud. Ionisatsiooni protsessis on mõned AR aatomid ioniseeritud ar + ioonid ja elektronid. Elektronid kiirendavad anoodi suunas elektrivälja ja positiivselt laetud ar + ioone kiirendab katde sihtmärgi suunas elektrilist välja ja vabastage vastav energia kokkupõrkes sihtpinnaga. Üks mõju, mis tuleneb ioonide mõjust teatud energiaga eesmärgile, on see, et sihtpinna aatomid saavad teatud energiat ja jätavad sihtpinna liikuma substraadi suunas. Sputtering, on ka teisi mikroosakesi, sealhulgas sekundaarse elektroneralemiste katde.
See on gaasi heide ja pinge on tavaliselt ülemises kilovolti. Kuid magnetriline röga on erinev,
Magnetron sputtering ajal on magnetvälja pinnal sihtmärgi, nii et elektronid saab siduda sihtmärgi ilma kaduma, moodustades enesekaitse heakskiidu nähtus, ja pinge loomulikult väheneb mitu sada volti. Enesesäilituse kinnitamise ajal on enamik argoonionisatsiooni põhjustatud vabade elektronide pommitamisel.
e-+ ar → ar + + 2e-
Kui olete huvitav keskkonnakaitse katte tüüp, võtke meiega nüüd, E-mail:iks.pvd@foxmail.com,rohkem üksikasju PVD vaakumkatte masin tootmine-IKS PVD Technology (Shenyang) Co., Ltd