Pihustava katte ühtlus

Pihustava katte ühtlus

Pihustuskatte puhul: seda võib lihtsalt mõista kui elektronide kasutamist või sihtmärgi suure energiaga laserpommitamist ning pinnakomponendid aatomirühmade või ioonide kujul pihustatakse välja ja sadestatakse lõpuks substraadi pinnale, läbima kile moodustamise protsessi ja lõpuks moodustama kile. Pihustuskatte võib jagada mitmeks tüübiks. Üldiselt võib öelda, et pihustuskiiruse ja aurustumiskatte erinevus seisneb selles, et pihustuskiirusest saab üks peamisi parameetreid. Laserpihustuskattes pld on komponentide ühtlust lihtne säilitada, kuid paksuse ühtlus aatomi skaalal on suhteliselt halb (kuna see on impulsspihustamine) ja kristallide kasvu (välisserv) juhtimine on samuti suhteliselt üldine. Võttes näiteks pld, on peamised tegurid järgmised: sihtmaterjali ja substraadi võre sobivusaste, katte atmosfäär (madalrõhuga gaasiatmosfäär), substraadi temperatuur, laseri võimsus, impulsi sagedus, pihustusaeg. Erinevate pihustusmaterjalide ja substraatide jaoks tuleb katsega määrata parimad parameetrid, mis on erinevad. Katteseadmete kvaliteet sõltub peamiselt sellest, kas see suudab täpselt kontrollida

temperatuur, kas see tagab hea vaakumastme, kas see võib tagada vaakumkambri hea puhtuse. MBE molekulaartala väliskatte tehnoloogia on ülaltoodud probleemid lahendanud, kuid põhiliselt kasutatakse seda eksperimentaalsetes uuringutes. Tööstuslikus tootmises tavaliselt kasutatav integreeritud katmismasin põhineb peamiselt ioonaurustuskattel ja magnetroni pihustuskattel.

IKS PVD ettevõte, dekoratiivkatmismasin, tööriistade katmismasin, DLC-katmismasin, optiline katmismasin, PVD vaakumkatmisliin, võtmed kätte projekt on saadaval. Võtke meiega kohe ühendust, e-post: iks.pvd@foxmail.com