Magnetroni pihustuskatte tehnoloogia

Magnetroni pihustuskatte tehnoloogial on järgmised eelised · sadestuskiirus on suur. Tänu kiirele magnetronelektroodile on saadud ioonivoog suur, mis parandab tõhusalt katmisprotsessi sadestus- ja pihustuskiirust. Võrreldes teiste pihustuskatmisprotsessidega on magnetron-pihustamine suure tootmisvõimsuse ja suure toodanguga ning seda kasutatakse laialdaselt erinevates tööstuslikes tootmistes. · Kõrge energiatõhusus. Magnetroni pihustussihtmärk valib tavaliselt pinge vahemikus 200 V-1000 V, tavaliselt 600 V, kuna pinge 600 V on just kõrgeimas efektiivses võimsustõhususe vahemikus. · Madal pihustusenergia. Magnetroni sihtpinge rakendatakse madalale ja magnetväli piirab plasmat katoodi lähedal, mis hoiab ära suurema energialaenguga osakeste sattumise substraadile. · Aluspinna temperatuur on madal. Anoodi saab kasutada tühjenemise ajal tekkivate elektronide ärajuhtimiseks, ilma et oleks vaja aluspinda maandada, mis võib tõhusalt vähendada substraadi elektronidega pommitamist, nii et substraadi temperatuur on madal, mis sobib väga hästi mõne plastikust substraadi jaoks. katted, mis ei ole liiga kõrgele temperatuurile vastupidavad. · Ebaühtlane söövitus magnetroni pihustusobjekti pinnal. Magnetroniga pihustatava sihtmärgi pinna ebaühtlane söövitus on põhjustatud sihtmärgi ebaühtlasest magnetväljast ja sihtmärgi lokaalse asukoha söövitamise määr on suur, seega on sihtmärgi efektiivne kasutusmäär madal (ainult 20%-30 % kasutusmäär). Seega, kui soovite parandada sihtmärgi kasutusmäära, peate teatud vahenditega muutma magnetvälja jaotust või kasutama magnetit katoodis liikumiseks, mis võib samuti parandada sihtmärgi kasutusmäära. · Liitsihtmärk. Saab valmistada komposiitkattega sulamist kilet. Praegu on Ta-Ti sulamist, (Tb-Dy) -Fe ja Gb-Co sulamist kilet edukalt kaetud komposiitmagnetroni sihtmärgi pihustusprotsessiga. Kombineeritud sihtmärke on nelja tüüpi, milleks on ümmargune mosaiiksihtmärk, ruudukujuline mosaiiksihtmärk, väike ruudukujuline mosaiiksihtmärk ja ventilaatori mosaiiksihtmärk, millest parim on ventilaatori mosaiiksihtmärk. · lai valik rakendusi. Magnetroni pihustusprotsessiga saab ladestada paljusid elemente, tavalised on Ag, Au, C, Co, Cu, Fe, Ge, Mo, Nb, Ni, Os, Cr, Pd, Pt, Re, Rh, Si, Ta, Ti, Zr, SiO, AlO, GaAs, U, W, SnO jne. Magnetjuhtimisega katmistehnoloogia on paljude kvaliteetsete kiletehnoloogiate jaoks üks enim kasutatavaid katmisprotsesse, millel on erinevad kiletüübid, kile paksuse tugev reguleeritavus, kõrge kile adhesioon, hea tihedus ja väga ilus pinnaviimistlus.

IKS PVD ettevõte, dekoratiivkatmismasin, tööriistade katmismasin, DLC-katmismasin, optiline katmismasin, PVD vaakumkatmisliin, võtmed kätte projekt on saadaval. Võtke meiega kohe ühendust, e-post: iks.pvd@foxmail.com