Ioonvaakumplaatimine

Ioonvaakumkatmine
Aurustunud materjali molekulid ioniseeritakse elektronide kokkupõrkel ja ladestatakse ioonide abil tahkele pinnale, mida nimetatakse ioonplaadistamiseks. Tehnika töötas välja D. mettox 1963. aastal. Ioonplaatimine on vaakum aurustamise ja katoodi pihustamise kombinatsioon. Substraati kasutatakse katoodina ja korpust anoodina ning hõõglahenduse saamiseks täidetakse inertgaas (nt argoon). Ionisatsioon toimub siis, kui aurustunud allikast aurustunud molekulid läbivad plasmapiirkonda. Positiivseid ioone kiirendab substraadi pinnale aluspinna negatiivne pinge. Liitunud neutraalsed aatomid (umbes 95% aurustumismaterjalist) ladestuvad ka vaakumkambri substraadile või seinapinnale. Elektrivälja kiirendav mõju ioniseeritud aurumolekulidele (ioonienergia on umbes mitusada ~ mitu tuhat elektronvoldit) ja argooniioonide pihustatav puhastusefekt substraadile parandab kile haardumistugevust oluliselt. Ioonplaadistamisprotsess ühendab aurustamise (kõrge sadestumiskiirus) ja pihustamise (hea kile adhesioon) omadused ning sellel on hea difraktsiooniline omadus, mida saab kasutada tooriku keeruka kujuga katmiseks.

IKS PVD ettevõte, dekoratiivkatte masin, tööriistade katmise masin, optilise katmise masin, PVD vaakumkatte liin, võtmed kätte projekt on saadaval. Võtke meiega ühendust, e-post: iks.pvd@foxmail.com