HiPIMSi tehnoloogia ülevaade
Jun 21, 2018| Magnetriipihustusprotsessi tehnoloogia on laialdaselt kasutusel õhukesed kile ettevalmistamisel. Dekoratiivsete kattekihtide ja tööriista kattekihid on suhteliselt tavalised.
Kuid magnetroni pihustusprotsesside tehnoloogiail on palju piiranguid. Näiteks kui pihustusvool on suur, mis tähendab, et magnetroni pihustamise sihtmärgi võimsus tihedus on piiratud soovitud soojuskoormusega, võib sihtmärgi pommitamine üleliigsete positiivsete ioonidega põhjustada pihustamise eesmärgi ülekuumenemise ja põletamise. Pealegi on sellel puudused piiratud pihustusenergia ja madala metalli ionisatsioonikiirusega.
Viimastel aastatel on koduvõrgus ja välismaal välja töötatud suure võimsusega pulseeritud magnetronipuhke (HiPIMS) tehnoloogia ja see piirang on märgatavalt nõrgenenud. Suure võimsusega impulssmagnetrooni pihustuse tippvõimsus on ligikaudu 100 korda tavalisest magnetronipurreteeritusest. Pihustatud materjali ionisatsioonikiirus on äärmiselt suur ja see väga ioniseeritud kiir ei sisalda suuri osakesi. Nii saab HiPIMS-i tehnoloogia abil kergesti saada kvaliteetset filmi.
Kuna impulsi tööaeg on mõnisada mikrosekundit, on HiPIMSi keskmine võimsus võrreldav tavapärase magnetronipursega, nii et magnetroni jahutusnõude nõue ei suurene. Kuigi suure võimsusega impulssmagnetrooni pihustuse hetkvõimsus on kõrge, pole selle keskmine võimsus suur, mistõttu seda saab laialdaselt kasutada.