Keemiline aurustamine-sadestamine (CVD)

Keemiline aurustamine-sadestamine (CVD)
CVD-tehnoloogias kasutatakse gaasilisi ühendeid või ühendite segusid, mis reageerivad keemiliselt substraadi kuumutuspinnal, mille tulemusena moodustub substraadi pinnale mittelenduv kate.
Eelised: lihtne töö, tugev paindlikkus, sobib ühe- või komposiitkilekihi ja kilekihi jaoks; Lai kasutusala; Sadestamiskiirus võib ulatuda mitmest mikronist kuni sadade mikroniteni minutis, millel on kõrge tootmistõhusus. Sobib keeruka kujuga maatriksi katmiseks; Kattel on hea kompaktsus.
Puudused: kõrge sadestustemperatuur, mis põhjustab kergesti substraadi jõudluse langust; Reaktsioonigaasil ja reaktsiooni jääkgaasil võib olla teatav korrosioon, süttivus ja toksilisus; Kate on väga õhuke.
CVD meetodit kasutatakse peamiselt kahes suunas:
1, valmistage ette kattekiht, parandage ja parandage materjalide või osade pinnaomadusi, et parandada või parandada materjalide või osade oksüdatsioonikindlust, kulumiskindlust, korrosioonikindlust ja mõningaid elektrilisi, optilisi ja triboloogilisi omadusi.
2. Töötada välja uusi konstruktsioonimaterjale. Praegu on CVD-tehnoloogiat laialdaselt kasutatud paljudes aspektides, nagu kaitsekile, mikroelektroonika tehnoloogia, päikeseenergia kasutamine, optiliste kiudude side, ülijuhtimise tehnoloogia, uute materjalide ettevalmistamine jne.
Lisaks on pulbermaterjalide valmistamisel tulevaseks arengusuunaks saanud ka tõhusate ja stabiilsete katalüsaatorite kasutamine CVD pulbri valmistamise protsessi edendamiseks või koos füüsikaliste meetoditega pulbermaterjalide valmistamiseks madala temperatuuri ja kõrgvaakumi tingimustes. keemilise aurustamise-sadestamise tehnoloogia.

IKS PVD ettevõte, dekoratiivkatmismasin, tööriistade katmismasin, DLC-katmismasin, optiline katmismasin, PVD vaakumkatmisliin, võtmed kätte projekt on saadaval. Võtke meiega kohe ühendust, e-post:iks.pvd@foxmail.com