ülikõrge vaakum (UHV)
Nov 18, 2024| ülikõrge vaakum(UHV)
10-1~10-6Isa
10-1~10-8Torr
gaasi kinnisvara
Gaasi molekulide ja seina sekundaarsete vaenlaste madal tihedus põhjustab harva pinna monokihi moodustumise aja pikenemist ning gaasilises ruumis on ainult tahke aine enda aatomid ja peaaegu puuduvad muud aatomid või molekulid. .
Valiku- ja rakenduspõhimõtted
Pinna füüsikat ja pinnakeemiat uuritakse põhimõttel, et gaasi molekulide tihedus on väga madal ja pinna kokkupõrge on väga haruldane ning pinna moodustumise aeg on väga pikk.
Taotlusküsitlus
1. Kontrollitud termotuumasünteesi uurimine; 2. Ajaviitega vesiniku molekulaarpeegli valmistamine; 3. Pinnafüüsika ja pinnakeemia alased uuringud; 4. Ruumikeskkonna simulatsioon; 5. Suure sünkrotroni prootonkiirendi töö; 6. Elektromagnetilise levitatsiooni tüüpi ülitäpse güroskoopi tootmine.
IKS PVD ettevõte, dekoratiivkatmismasin, tööriistade katmismasin, DLC-katmismasin, optiline katmismasin, PVD vaakumkatmisliin, võtmed kätte projekt on saadaval. Võtke meiega kohe ühendust, e-post: iks.pvd@foxmail.com