Ultraheli puhastamise efekti mõjutavad tegurid

1. Ultraheli intensiivsus

Ultraheli puhastamise mõju sõltub kavitatsiooniefektist, kuid kavitatsiooniefekti tekitamine on seotud ultraheli lainete intensiivsusega. Tavalistes tingimustes, kui ultraheli võimsus ühiku pindalast ületab 0,3 W, seda suurem ultraheli intensiivsus, seda selgem on kavitatsiooniefekt ja seda parem puhastusmõju. Lisaks, vastavalt erinevatele puhastusobjektidele valige sobiv ultraheli intensiivsus, näiteks ultraheli tugevus võib trükkplaadi puhastamisel olla madalam ja mehaaniliste osade puhastamisel võib ultraheli intensiivsus olla suurem.

2. Ultraheli sagedus

Kaavitatsiooniefekt on seotud ka ultraheli lainete sagedusega. Kavitatsiooni genereerimisel on minimaalne kriitiline amplituud, see tähendab, et kavitatsioon väheneb sageduse suurenemisega. Praegu jagatakse ultraheli puhastusmasina töösagedus vastavalt puhastusobjektile kolmeks sagedusribaks: LF ultraheli puhastamine (20 ~ 50 kHz), kõrgsageduslik ultraheli puhastus (50-200 kHz) ja ultraheli puhastamine (1000 kHz). Madala sagedusega ultraheli puhastus sobib suurte osade pinnale või kui mustuse ja puhastusosade kõrge sideme tugevus on. Kõrgsageduslik ultraheli puhastus sobib arvutite ja mikroelektrooniliste komponentide, nagu ketas, täiturmehhanism, lugemis-kirjutuspea ning vedelkristallekraani ja lameekraaniga mikrokomponentide peenest puhastamiseks. Megahertsi ultraheli puhastus sobib integreeritud kiipide, räniplaatide ja õhukeste kilede puhastamiseks.

3. Puhastustemperatuur

Kui puhastustemperatuur on suurenenud, eelistatakse seda kavitatsiooni. Kuid kui temperatuur on liiga kõrge, suureneb aururõhk mullides ja kavitatsiooni tugevus väheneb. Seetõttu peab temperatuuri valikul arvestama puhastuslahuse kavitatsiooni tugevuse ja keemiaga. Igasugusel vedelal on kaevitatsionaalselt aktiivne temperatuur ja sobivam temperatuur vee jaoks on umbes 60 ° C, millisel juhul on kavitatsioon kõige aktiivsem.